透射式微焦点X射线源钨-金刚石靶材的制备及其性能研究
马玉田
刘俊标
牛耕
赵伟霞
韩立
1.中国科学院电工研究所,北京,1001902.中国科学院电工研究所,北京,1001903.中国科学院电工研究所,北京,1001904.中国科学院电工研究所,北京,1001905.中国科学院电工研究所,北京,100190
摘要：本文采用磁控溅射镀膜技术制备了钨-金刚石透射靶材,借助电子扫描电镜对靶材的钨薄膜进行微观形貌分析.同时借助YXLON光机,研究自制靶材在X射线出射率及其产生X射线所需消耗功率和寿命等性能,并与YXLON原带靶材进行性能比较.研究表明,采用磁控溅射制备的钨薄膜与YXLON靶材上的钨薄膜具有相似的表面形貌;在YXLON光机相同工作条件下,自制靶材的X射线出射率略高于YXLON原带靶材的X射线出射率的1%,二者辐射X射线所需的功率相差无几,自制靶材的寿命要长于YXLON靶材的.这表明自制钨-金刚石靶材能够满足微焦点射线源所需的高质量靶材的应用要求.
关键词：显微计算机断层成像磁控溅射钨-金刚石透射靶材
分类号：TP391.41(计算技术、计算机技术)
资助基金：中国科学院科研装备研制项目(YZ201410)
论文发表日期：2017-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：6( 189-194 )
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