带有工艺约束的并行多机调度策略
宁凝
钱省三
孟志雷
1.上海理工大学管理学院,上海,2000932.上海理工大学管理学院,上海,2000933.上海理工大学管理学院,上海,200093
摘要:针对光刻设备组的生产特点,基于最小化加工时间对其调度问题建立了整数规划数学模型,并提出了一种启发式调度策略.运用Extend仿真软件对传统的FCFS和启发式调度策略分别进行仿真,结果表明,启发式调度策略在减少加工时间和提高设备利用率上皆优于FCFS.
关键词:光刻区调度工艺约束并行多机Extend仿真
分类号:TP301.6(计算技术、计算机技术)
资助基金:高等学校博士学科点专项科研项目(20050252008)上海市重点学科建设项目(TO502)
论文发表日期:2008-01-01
在线出版日期:2025-08-15(本平台首次上网日期,不代表文献的发表时间)
页数:4( 62-65 )
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工业工程

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北大核心CSTPCD
ISSN:1007-7375
年,卷(期):2008,11(2)
所属栏目:实践与应用