基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究
吴立辉1
石津铭1
金克山1
张洁2
1.上海应用技术大学 机械工程学院,上海 2014002.东华大学 人工智能研究院,上海 201620
摘要:为求解具有动态性、实时性、多约束、多目标特点的晶圆光刻区调度问题,提出一种基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法.设计引入门控循环单元学习光刻区历史调度决策与状态的时序信息,为双深度强化学习模型提供辅助决策信息;设计双深度强化学习模型的输入状态空间、输出动作集,并面向晶圆最小化最大完工时间和晶圆准时交货率指标设计多目标奖励函数,为智能体优化调度输出;设计设备专用性约束与掩模版约束的解约束规则与调度方法相结合,提高调度方案实施的实用性.通过某晶圆制造企业实际算例,将该方法与传统双深度强化学习和光刻区启发式规则方法比较,该方法均为最优,证明了其解决此问题的有效性.
关键词:晶圆制造系统光刻区调度深度强化学习门控循环单元(GRU)多目标
分类号:F426.4(中国工业经济)TP391(计算技术、计算机技术)
资助基金:国家重点研发计划(2022YFB3305003)上海应用技术大学引进人才科研启动项目(YJ2022-33)
论文发表日期:2024-06-28
在线出版日期:2025-08-15(本平台首次上网日期,不代表文献的发表时间)
页数:11( 12-21,30 )
英文信息展开
工业工程

工业工程

CSTPCD
ISSN:1007-7375
年,卷(期):2024,27(3)
所属栏目:晶圆制造过程优化与测试