基于电阻抗断层成像的非均匀电导率颅骨物理模型研究
杨润楠
王聪
史学涛
董秀珍
尤富生
1.第四军医大学生物医学工程系,陕西西安,7100322.第四军医大学生物医学工程系,陕西西安,7100323.第四军医大学生物医学工程系,陕西西安,7100324.第四军医大学生物医学工程系,陕西西安,7100325.第四军医大学生物医学工程系,陕西西安,710032
摘要：目的 用非均匀电导率分布的颅骨模型进行电阻抗断层成像(EIT)实验,分析颅骨电导率非均匀分布对成像结果的影响.方法 选用石膏材料制作非均匀电导率的颅骨模型,用此模型模拟头颅进行EIT目标成像,并将结果与均匀电导率颅骨模型的成像结果进行比较.结果 相对于均匀电导率模型,在非均匀电导率模型内成像目标更加远离电导率较低一侧,且所在位置边界电压扰动量降低.结论 颅骨模型的电导率非均匀分布对成像定位有明显影响,需要在成像算法上做进一步改进.
关键词：电导率电阻抗断层成像边界电压颅骨
分类号：R319(医用一般科学)
资助基金：国家自然科学基金(50337020)
论文发表日期：2007-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 133-135 )
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