表面涂覆件工艺设计若干问题探讨

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DOI: 10.3969/j.issn.1672-9722.2002.03.010

表面涂覆件工艺设计若干问题探讨

岳亚非

武汉数字工程研究所,武汉,430074

摘要：本文列举了表面涂覆件的结构工艺过程设计中几个不可忽视的问题,讨论了相应的工艺方法,提出了实施某些涂覆工艺的技术要求.

关键词：表面涂覆件工艺过程设计涂覆工艺

分类号：TN41(微电子学、集成电路（IC）)

论文发表日期：2002-01-01

在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）

页数：3( 54-56 )

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计算机与数字工程

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CSTPCD

ISSN：1672-9722

年,卷(期)：2002,30(3)