肼对高岭土插层的研究(Ⅰ)——肼溶液浓度对插层的影响
陈祖熊
颜卫
王坚
季春勇
成玉梅
1.华东理工大学 无机材料系，上海 2002372.华东理工大学 无机材料系，上海 2002373.华东理工大学 无机材料系，上海 2002374.华东理工大学 无机材料系，上海 2002375.华东理工大学 无机材料系，上海 200237
摘要：研究了肼插层茂名高岭土时，肼在水溶液中的浓度对插层速率的影响．发现存在着进行插层反应的最低浓度阈值和最佳浓度值．高浓度肼溶液(≥24 mol／L)插层高岭土时，除扩展的层间距1．04 nm外，还出现一个0．97 nm的新层间距．红外光谱研究表明，此层间距很可能与NH2基团嵌入高岭土结构中的复三方硅氧空洞有关．
关键词：插层高岭土肼插层化合物
分类号：TD926.1(选矿)TQ174.41(硅酸盐工业)
论文发表日期：2000-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：5( 151-155 )
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