钠铁硅系统玻璃形成区和磁化率的研究
钱达兴
顾华
梁珊珊
1.同济大学材料科学与工程学院2.同济大学材料科学与工程学院3.同济大学材料科学与工程学院
摘要：研究了钠铁硅系统玻璃的形成区和磁化率.结果证明:(1)在一定实验条件下,钠铁硅系统玻璃形成区的范围是:x(Na2O)=0～52%;x(Fe2O3)=0～20%;x(SiO2)=48%～1 00%.(2)钠铁硅系统玻璃的磁化率不仅与Fe2O3的含量有关,而且与Fe3+在玻璃中的结构地位有关.当Fe3+处于四配位状态时,Fe3+的3d电子处于弱场高自旋状态,对磁化率的贡献就较大;当Fe3+处于六配位状态时,Fe3+的3d电子处于强场低自旋状态,对磁化率的贡献就较小.(3)磁化率的转折点位于x(Fe2O3)=6%附近.
关键词：钠铁硅系统玻璃玻璃形成区磁化率
分类号：TQ171.1+12(硅酸盐工业)
论文发表日期：2001-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：5( 289-293 )
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