氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的椭偏仪及背散射研究
李庚伟1
张建辉2
1.中国地质大学材料科学与工程学院,北京,1000832.中国科学院半导体材料科学实验室,北京,100083
摘要：通过对ZnO/Si(lll)样品的椭偏仪及背散射(RBS)测量及分析,探究了氧离子束辅助(O+-assisted)脉冲激光淀积(PLD)生长ZnO/Si的薄膜厚度.
关键词：ZnO/Si异质结构椭偏仪背散射(RBS)氧离子束辅助(O+-assjsted)脉冲激光淀积(PLD)
分类号：O611(无机化学)
资助基金：国家高技术研究发展计划（863计划）(863-715-001-0162)
论文发表日期：2005-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 6-8 )
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