溅射气压对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响
赵梦遥
李明标
1.渤海大学,数理学院,辽宁,锦州,1210132.渤海大学,数理学院,辽宁,锦州,121013
摘要：采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜,分析了ZnO薄膜的晶体结构和表面形貌.结果表明:所制备的 ZnO薄膜是具有(002)晶面择优生长的多晶薄膜.溅射气压为0.3Pa时,薄膜的晶粒尺寸较大,结晶度提高.
关键词：射频磁控溅射ZnO薄膜溅射气压
分类号：O484(固体物理学)
资助基金：辽宁省教育厅高等学校科研项目计划(120100003)
论文发表日期：2011-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 31-33 )
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