基板温度对电子束沉积LaF3薄膜紫外性能的影响
张锋1
郝殿中2
1.曲阜师范大学学报编辑部,山东,曲阜,2731652.山东省激光偏光与信息技术重点实验室,曲阜师范大学激光研究所,山东,曲阜,273165
摘要：采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF<,3>单层膜.研究了基板温度对LaF<,3>薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随温度的升高有增大的趋势;
关键词：光学薄膜基板温度电子束沉积LaF3
分类号：O484.1(固体物理学)
论文发表日期：2011-01-01
在线出版日期：2026-08-28（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：2( 61-62 )
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