氧压对PLD技术制备0.935Bi1/2Na1/2TiO3-0.065BaTiO3-0.01Al6Bi2O12薄膜的影响
刘春海
梁增基
李淑真
张燕
冀露露
王莹
李伟
1.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,2520592.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,2520593.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,2520594.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,2520595.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,2520596.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,2520597.聊城大学材料科学与工程学院,山东聊城,252059
摘要：压电薄膜具有优异的铁电、压电和介电性能,被广泛的应用于存储器、微传感器和微驱动器等领域中.目前脉冲激光沉积技术(PLD)成为一种新兴的薄膜制备技术,沉积薄膜的质量容易受到衬底温度、氧压、靶材与衬底距离、激光能量等方面的影响.本文基于0.935Bi1/2 Na1/2TiO3-0.065BaTiO3-0.01Al6Bi2O12(简称为BNBT-0.01AB)薄膜,利用PLD制备技术研究了不同氧压(15 Pa,30 Pa)对沉积的薄膜结构与性能的影响.结果表明:在30 Pa下沉积得到的薄膜产生了(l00)方向的择优取向生长,晶粒呈立方块状,有效压电系数d*33为103 pm/V;15 Pa下沉积得到的薄膜为随机取向,晶粒呈片状,有效压电系数d*33为69'pm/V.本研究结果为选择合适的沉积参数提供了有利的参考.
关键词：压电薄膜氧压脉冲激光沉积结构
分类号：TM282(电工材料)
资助基金：国家自然科学基金(51502127)聊城大学科技文化创新基金(26312161907,26312161917)创新训练项目(CXCY2016007)
论文发表日期：2016-01-01
在线出版日期：2026-08-28（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：5( 19-23 )
英文信息