静电场诱导光刻技术实现曲面光栅结构的制备
李和福
赵楠
田存伟
冯振豹
于会山
王文军
1.聊城大学 物理科学与信息工程学院、山东省光通信科学与技术重点实验室,山东 聊城,2520592.聊城大学 物理科学与信息工程学院、山东省光通信科学与技术重点实验室,山东 聊城,2520593.聊城大学 物理科学与信息工程学院、山东省光通信科学与技术重点实验室,山东 聊城,2520594.聊城大学 物理科学与信息工程学院、山东省光通信科学与技术重点实验室,山东 聊城,2520595.聊城大学 物理科学与信息工程学院、山东省光通信科学与技术重点实验室,山东 聊城,2520596.聊城大学 物理科学与信息工程学院、山东省光通信科学与技术重点实验室,山东 聊城,252059
摘要：利用软光刻技术在凸面基底上制备了光栅结构.以此凸面基底上制备的光栅结构作为模板,利用静电场诱导光刻技术实现了凹面基底上光栅结构的制备.光栅模板结构的高度为5.3μm,线宽是6.25μm,高宽比达到0.85∶1.诱导成形光栅结构的高度为42μm,线宽是13.35μm,高宽比高于3∶1.结果表明借助静电场诱导光刻技术可以在曲面基底上利用小高宽比的微结构模板制备出大高宽比的微结构.
关键词：软光刻技术静电场诱导光刻技术光栅结构大高宽比曲面基底
分类号：O439(光学)
资助基金：国家自然科学基金(61775089)山东省自然科学基金(ZR2016FQ05)山东省重点实验室产业联盟基金(SDKL2016038)聊城大学博士启动基金(318051542)
论文发表日期：2018-01-01
在线出版日期：2026-08-28（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：6( 52-57 )
英文信息