电沉积Cu/Ni多层膜硬度与调制波长关系的研究
李武会
任凤章
苏娟华
马战红
1.河南科技大学,材料科学与工程学院,河南,洛阳,4710032.河南科技大学,材料科学与工程学院,河南,洛阳,4710033.河南科技大学,材料科学与工程学院,河南,洛阳,4710034.河南科技大学,材料科学与工程学院,河南,洛阳,471003
摘要：分别采用双槽法和单槽法制备了不同调制波长的Cu/Ni多层膜,研究了多层膜硬度与调制波长之间的关系.结果表明,当调制波长大于33 nm时,硬度与调制波长的关系符合Hall-Petch关系式;小于33 nm时,偏离了Hall-Petch关系式;等于21 nm时,硬度出现了峰值,约为HV451.8.
关键词：电沉积多层膜硬度调制波长
分类号：TG115.5(金属学与热处理)O484.5(固体物理学)
资助基金：国家自然科学基金(50771042)河南省高等学校青年骨干教师资助计划(2005-461;0411050100)
论文发表日期：2008-05-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 1-4 )
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