基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性
赵洋1
赵龙1
王辉2
汤正新3
王瑾1
史志峰1
1.吉林大学,电子科学与工程学院,吉林长春1300232.吉林大学,电子科学与工程学院,吉林长春130023;河南科技大学物理与工程学院,河南洛阳4710033.河南科技大学物理与工程学院,河南洛阳,471003
摘要：用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜.分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试.X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1:1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右.
关键词：NiO薄膜金属有机化学气相沉积法透射率
分类号：O484.4(固体物理学)
资助基金：国家自然科学基金(60877020,60976010)河南科技大学人才科学基金(13490034)河南科技大学青年基金(13490045)
论文发表日期：2011-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 9-11 )
英文信息