CH4对氧化锌场发射性能的影响
王金婵
刘博
宋璐
张立文
1.河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳,4710232.河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳,4710233.河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳,4710234.河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳,471023
摘要：CH4是封装的氧化锌场发射器件中一种重要的残余气体成份.为了研究该残余气体成份对器件性能的影响,本文采用加速结果显示的充气试验法,即将CH4通过针阀引入安装在真空系统上的氧化锌场发射器件中.从试验结果得出CH4对氧化锌的场发射电流具有增强作用.由于CH4在ZnO表面吸附后改变了Zn0表面的电荷分布,使更多电子聚集在ZnO的表面,从而使其发射电子的能力在相同外加电场下有所增加.根据所得结果,提出通过改变器件内残余气体的方法改善氧化锌场发射器件的工作性能.即在器件排气过程中引入一定量的CH4气体,结果表明器件的发射性能有一定的改善.
关键词：氧化锌场发射CH4稳定性
分类号：TN104.7(真空电子技术)
资助基金：河南省重点攻关基金项目(112102210430)河南科技大学自然科学基金项目(2012QN023)
论文发表日期：2013-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 45-48 )