溅射功率对直流磁控溅射TiO2薄膜光学性能的影响
史新伟1
马群超1
李杏瑞2
姚宁1
王晓1
1.郑州大学 物理工程学院,河南 郑州,4500012.郑州大学 材料科学与工程学院,河南 郑州,450001
摘要：通过改变溅射功率,使用直流磁控溅射设备,在玻璃衬底上制备了系列TiO2薄膜.分别用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和椭偏光谱仪测试了TiO2薄膜的形貌、结构及厚度.使用紫外-可见分光光度计测试了TiO2薄膜的光学性能.使用TiO2薄膜降解罗丹明B溶液测试了其光催化活性.研究结果表明:溅射功率增大,薄膜的透射谱及吸收谱在紫外出现明显的"红移"现象,光学带隙从3.51 eV减小到3.40 eV.适当提高溅射功率有利于提高TiO2薄膜的光催化活性,当溅射功率为213 W时,薄膜的光催化性能最好.
关键词：磁控溅射溅射功率TiO2薄膜光催化活性
分类号：O433.4(光学)TB34(工程材料学)
资助基金：国家自然科学基金(61076041)河南省自然科学基金(182300410192)河南省基础与前沿技术研究计划(152300410038)
论文发表日期：2018-11-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：6( 84-89 )