氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响
张猛
付宏远
孙艳艳
赵洋
王辉
1.河南科技大学物理工程学院,河南 洛阳 471023;河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室,河南 洛阳 4710232.河南科技大学物理工程学院,河南 洛阳 471023;河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室,河南 洛阳 4710233.河南科技大学物理工程学院,河南 洛阳 471023;河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室,河南 洛阳 4710234.河南科技大学物理工程学院,河南 洛阳 471023;河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室,河南 洛阳 4710235.河南科技大学物理工程学院,河南 洛阳 471023;河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室,河南 洛阳 471023
摘要：采用JGP300型超高真空磁控溅射系统,在蓝宝石(Al2O3)、p-Si和氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、紫外分光光度计(UV)、原子力显微镜(AFM)分析了氧氩比对ZnO薄膜晶体结构、光学特性和表面形貌的影响.测试结果表明:ZnO薄膜均为单一六方纤锌矿结构,且均表现出c轴择优取向.随着氧氩比的减小,ZnO(002)衍射峰强度增大,衍射峰半高宽(FWHM)减小.氧氩比为1:4条件下制备的ZnO薄膜结晶质量较好.随着氧氩比的增大,ZnO薄膜表面粗糙度先增大后减小.在可见光范围内(波长400～700 nm),氧氩比为3:2条件下制备的ZnO薄膜,平均透过率超过70％.
关键词：ZnO磁控溅射氧氩比光电学特性薄膜结构
分类号：TB43(工业通用技术与设备)
资助基金：国家自然科学基金(61674052)国家自然科学基金(11404097)河南科技大学大学生研究训练计划(SRTP;2018196,10464024)
论文发表日期：2019-11-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：5( 80-83,88 )