氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响
郭帅东1
王广欣2
李浩翔3
孙浩亮2
逯峙2
唐坤2
1.河南科技大学 材料科学与工程学院,河南洛阳 4710232.河南科技大学 材料科学与工程学院,河南洛阳 471023;河南科技大学 河南省高纯材料及溅射靶材工程研究中心,河南洛阳 471023;河南科技大学 洛阳市高纯材料及溅射靶材重点实验室,河南洛阳 4710233.广西大学动物科学技术学院,广西南宁 530004
摘要：采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜.通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响.研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加.
关键词：磁控溅射扩散阻挡层Ta-Ru-N方块电阻
分类号：TB43(工业通用技术与设备)
资助基金：国家自然科学基金(U1504516)河南省高等学校重点科研项目(16A430016)
论文发表日期：2020-08-25
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：6( 7-12 )