庆大霉素损伤条件下大肠杆菌内源过氧化氢对间体膜囊的作用
钟永亮1
李欣2
庞新跃3
刘雪茹1
1.河南科技大学 食品与生物工程学院,河南洛阳 4710232.河南科技大学 食品与生物工程学院,河南洛阳 471023;河南科技大学 食品加工与安全国家级实验教学示范中心,河南洛阳 471023;河南省食品微生物工程技术研究中心,河南洛阳 4710233.河南科技大学 医学技术与工程学院,河南洛阳 471023
摘要：为了探讨细菌受到抗生素损伤后,内源过氧化氢(H2 O2)对间体膜囊的影响,通过庆大霉素损伤大肠杆菌.以电导率和丙二醛(MDA)为损伤指标,采用组织化学染色法,通过透射电子显微镜,观察经庆大霉素损伤后大肠杆菌内源H2 O2和间体膜囊的变化.研究结果表明:庆大霉素损伤可提高大肠杆菌的内源H2 O2浓度、间体膜囊数量以及间体膜囊周围的H2 O2浓度.在间体膜囊外排的过程中,使用Tris-HCl蔗糖高渗溶液进行处理之后,H2 O2浓度显著提升,电导率大幅度降低.庆大霉素和过氧化氢酶处理后,间体膜囊中的MDA浓度升高,损伤加重.庆大霉素损伤导致大肠杆菌的间体膜囊外周聚集大量的H2 O2,且这些H2 O2对间体膜囊具有保护作用.
关键词：内源过氧化氢间体膜囊庆大霉素电导率丙二醛
分类号：R378.2+1(医学微生物学（病原细菌学、病原微生物学）)
资助基金：国家重点研发计划(2017YFC1600802)国家自然科学基金(31000017)河南省高等学校重点科研项目(18A310013)
论文发表日期：2020-10-25
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：7( 75-81 )