覆膜对日光温室垄嵌及沟嵌基质栽培根区温度和甜椒幼苗生长的影响
李宝石1
李浩2
王奇1
刘文科1
邵明杰1
周成波1
1.中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所/农业农村部设施农业节能与废弃物处理重点实验室,北京 1000812.河北农业大学机电工程学院,河北 保定 071001
摘要：为了探究覆膜对日光温室中垄嵌与沟嵌基质栽培根区温度和甜椒幼苗生长的影响,以土垄栽培(SR)为对照,设置4个垄嵌及沟嵌基质处理进行田间试验.其中处理1为起垄内嵌基质栽培(SSC),其下底宽40 cm,高度10 cm,内嵌槽深10 cm;处理2为不覆膜起垄内嵌基质栽培(SSC-WF);处理3为内嵌槽全嵌入(10 cm)地表面的土壤沟嵌基质栽培(SE),高度为0 cm;处理4为不覆膜土壤沟嵌基质栽培(SE-WF).结果表明:与SR相比,SSC、SE处理能够提高夜间根区温度均值0.5℃左右;不同月份的最高温与最低温差值的平均值表现结果有所不同,但以SE处理的根区稳定性较强.垄嵌与沟嵌对根区温度的影响表现为:垄嵌基质栽培抗低温能力要优于沟嵌基质栽培,但根区温度稳定性较弱;覆膜处理能够提高根区温度.SSC、SSC-WF和SE处理甜椒幼苗的株高、茎粗和SPAD值显著高于SR,且SSC处理促进幼苗生长的效果最显著;SSC和SE处理的茎粗和SPAD值有显著差异,株高无显著差异.综上所述,覆膜条件下,垄嵌与沟嵌基质栽培能够提高根区温热效应,尤以垄嵌基质栽培更优,同时更利于促进甜椒幼苗的生长.
关键词：日光温室垄嵌与沟嵌基质栽培甜椒幼苗根区温度株高地膜覆盖
分类号：S641.301(园艺)
资助基金：河北省重点研发计划项目(2032711D)国家重点研发计划(2016YFD0801001)
论文发表日期：2021-06-28
在线出版日期：2026-05-22（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：6( 33-38 )
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