溅射条件对SiO2膜力学特性的影响
孙承松
魏永广
关艳霞
1.沈阳工业大学信息科学与工程学院,辽宁,沈阳1100232.沈阳工业大学信息科学与工程学院,辽宁,沈阳1100233.沈阳工业大学信息科学与工程学院,辽宁,沈阳110023
摘要：介绍了在不锈钢衬底和Ni-Cr应变电阻间SiO2薄膜的制做方法,在不宜用热氧化和CVD法制做SiO2膜的情况下,利用该法是行之有效的.探讨了溅射工艺条件对膜附着力和应力的影响,并指出了制备具有较好附着力和较低应力的方法.
关键词：溅射SiO2膜力学特性
分类号：TP212(自动化技术及设备)
论文发表日期：1999-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
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