新型SiO-Ta2O5复合介质薄膜电容器的研究
韦春才
李和太
1.沈阳工业大学信息科学与工程学院,辽宁沈阳1100232.沈阳工业大学信息科学与工程学院,辽宁沈阳110023
摘要：研制出一种新型SiO-Ta2O5复合介质薄膜电容器.复合介质膜是用溅射法将SiO和Ta2O5材料溅射在微晶玻璃片上形成的,其下电极Al和上电极Au是用蒸发法制备的.这种电容器具有耐压强度高、损耗小、漏电低、精度高、稳定性好等合格率高特点.
关键词：一氧化硅五氧化二钽复合介质膜电容器
分类号：TN605(电子元件、组件)
论文发表日期：1999-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 438-440 )
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