钛合金表面TiAlN膜层的制备
张春华1
芦伟2
杨舒宇2
张松2
张希川2
刘常升3
1.沈阳工业大学,材料科学与工程学院,沈阳,110178;东北大学,材料与冶金学院,沈阳,1100042.沈阳工业大学,材料科学与工程学院,沈阳,1101783.东北大学,材料与冶金学院,沈阳,110004
摘要:为了研究不同偏压对TiAlN薄膜性能的影响以及薄膜体系膜基硬度比随载荷的变化关系,采用多弧离子镀的方法在Ti6Al4V合金表面制备TiAlN薄膜,利用扫描电子显微镜、x-射线衍射仪、全自动显微硬度计等设备对膜层的微观组织结构和力学性能进行了测试.结果表明,TiAlN膜层由Ti2AlN(hcp)相组成.在恒定载荷条件下,体系的膜基硬度比随载荷的增加而减小.当载荷小于300 g时,偏压对膜基硬度比与载荷关系曲线呈不规则影响.载荷超过300 g以后,几乎没有影响.
关键词:Ti6Al4V合金TiAlN合金薄膜多弧离子镀膜基硬度比
分类号:TB43(工业通用技术与设备)
资助基金:中国博士后科学基金(20060400957)辽宁省教育厅研究发展计划资助项目(05L301,20060636)
论文发表日期:2008-08-31
在线出版日期:2025-08-15(本平台首次上网日期,不代表文献的发表时间)
页数:5( 525-529 )
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沈阳工业大学学报

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CSTPCDEI
ISSN:1000-1646
年,卷(期):2008,30(5)
所属栏目:材料科学与工程