微型种植体支抗近移磨牙过程中的强支抗效应
郭军
法永红
蔡兴伟
黄长城
1.解放军第二炮兵总医院口腔科,北京市,1000882.解放军第二炮兵总医院口腔科,北京市,1000883.解放军第二炮兵总医院口腔科,北京市,1000884.解放军第二炮兵总医院口腔科,北京市,100088
摘要：背景:在正畸治疗中,移动下颌磨牙需要强大的支抗控制,这也成为临床正畸所遇到的一个难题.目的:采用微型种植体作支抗,观察近移安氏Ⅰ类错牙合患者下颌磨牙的临床效果及其作用特点.方法:选择15例下颌第一磨牙缺失成人患者,将24枚微型种植体植于下颌第二前磨牙与第一前磨牙之间颊侧牙槽骨内,Ni-Ti螺旋弹簧拉长后置于下颌第二磨牙与微型种植体之间,拉磨牙近中移动.通过测量下颌第二磨牙在近远中方向、垂直向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变.并通过下颌中切牙的位置变化,评价支抗强弱.结果与结论:疗程10.4个月,下颌第二磨牙平均移动速度为0.8 mm/月;平均近中移动8.5 mm,垂直向没有变化;磨牙长轴向远中倾斜角度为2.5°,下颌中切牙位置无改变.提示所有下颌第二磨牙均被近移到了恰当的位置,未见前牙支抗丧失.种植体作为支抗在拉下颌磨牙近移的过程中,发挥了强支抗的作用.
关键词：磨牙近移微型种植体安氏Ⅰ类错(牙合)正畸支抗
分类号：R772.2(眼纤维膜疾病)
论文发表日期：2010-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 1577-1580 )
英文信息