两种直径种植体对上颌窦黏膜形变影响的有限元分析
刘晓芳1
胡玲玲2
宋光保1
侯雅蓉1
柳大烈3
章锦才1
1.南方医科大学附属口腔医院·广东省口腔医院,广东省广州市,5102802.中山大学工学院应用力学与工程系,广东省广州市,5102753.南方医科大学附属珠江医院整形美容外科,广东省广州市,510280
摘要：背景:上颌窦黏膜形变温和均匀是减少骨挤压式上颌窦提升手术中黏膜穿孔的重要因素.目的:比较两种直径种植体对上颌窦黏膜形变的影响.方法:在ANSYS有限元软件的特定单元中分别建立直径4.1 mm和4.8 mm的ITI种植体与厚0.3 mm的上颌窦黏膜的有限元模型,模拟上颌窦提升手术抬高黏膜,根据大变形理论计算不同提升高度黏膜表面Von mises应力值.结果与结论:结果显示,最大Von mise应力发生在黏膜中心,最小Von mise应力发生在黏膜边缘.两种直径种植体对黏膜中心作用力差异无显著性意义(P > 0.05),而对黏膜边缘作用力,直径4.8 mm种植体较4.1 mm种植体具有更加均匀温和的作用力.因此,在骨宽度允许的情况下,直径4.8 mm的种植体更适合用于骨挤压式上颌窦提升手术.
关键词：牙种植体上颌窦黏膜不同直径Von mise应力有限元分析
分类号：R318(医用一般科学)
资助基金：广东省医学科研基金(A2009095)
论文发表日期：2011-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 9742-9745 )
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