3种过氧化脲漂白剂对釉质表面作用的SEM观察
孙翔
陈吉华
方明
1.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,7100322.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,7100323.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032
摘要：目的:了解3种过氧化脲漂白剂在体情况下对釉质表面的影响.方法:选用临床正畸患者即将拔除的健康前磨牙,分为4组,每天分别给予3种过氧化脲漂白剂(300、160 g/L CP-Rembrandt,150 g/L CP-瑞康)漂白处理,空白对照组不作处理.2周后,拔除受试牙,即刻用扫描电镜对釉质表面进行观察.结果:300 g/L过氧化脲漂白组釉质表面局部有轻度溶解、脱矿现象;160、150 g/L组漂白后釉质表面较光滑,无明显脱矿.结论:临床情况下,以上受试产品中,300 g/L过氧化脲对釉质局部表面有轻微脱矿作用,160、150 g/L过氧化脲对釉质表面无明显脱矿作用.上述脱矿现象与釉质本身表面结构有关.
关键词：漂白过氧化脲扫描电镜釉质
分类号：R783.1(口腔矫形学、牙科美学)
论文发表日期：2003-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 212-214 )
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