正畸托槽去除后两种釉质抛光法对比研究--釉质扫描电镜观察
付善民
丁寅
王海雪
史真
曹猛
1.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,7100322.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,7100323.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,7100324.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,7100325.第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032
摘要：目的:观察去除黏结后釉质表面不同处理方法对牙齿表面结构的影响,为临床提供一种新的釉质抛光方法.方法:选择因正畸治疗需拔除4个第一前磨牙的患者8例,共32个牙.不同的个体,按同名牙分成4组,每组8个,分别用常规的方法和釉质处理仪进行牙面抛光处理,同时记录抛光时间,拔除后,测量其表面粗糙度Ra,然后扫描电镜观察.结果:正畸过程中釉质组织结构有变化,釉质处理仪抛光牙面优于常规方法,Ra值釉质处理仪组可以达到常规组的抛光效果,且效率提高.结论:釉质处理仪对牙表面的处理结果可以达到临床要求.
关键词：釉质抛光电子显微镜表面粗糙度
分类号：R780.2(口腔病理学)
论文发表日期：2004-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 319-321 )
英文信息