高分子聚合体表面润湿性研究模型的建立
魏建华1
封兴华1
Masao Yoshinari2
马威1
张浚睿1
刘宝林1
Yutaka ODA2
马婕1
1.第四军医大学口腔医学院,陕西西安,7100322.Department of Dental Materials Science;Tokyo Dental College;1-2-2 Masago;Mihama-ku,Chiba 261-8502,日本
摘要：目的:利用低温等离子体轰击法建立高分子聚合体表面润湿性研究模型.方法:使用氧低温等离子体轰击六甲基二硅氧烷薄膜聚合体表面,测定表面接触角,建立轰击时间-表面接触角曲线,建立线型回归方程.观察在不同介质中保存时材料表面接触角的变化情况.结果:经过氧等离子体轰击后,六甲基二硅氧烷薄膜聚合体表面接触角明显下降,与处理时间呈现负相关性.在空气中保存时,表面接触角随时间逐渐上升,0度接触角表面24 h后上升为20°左右,而在双蒸水中保存的表面接触角基本保持不变.结论:氧等离子体轰击法能可控性地改变六甲基二硅氧烷薄膜聚合体表面润湿性,处理后的表面在水中接触角保持稳定,该方法可以用来建立表面润湿性研究模型.
关键词：等离子体轰击法表面润湿性等离子体聚合物接触角
分类号：R783.1(口腔矫形学、牙科美学)
论文发表日期：2008-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 393-395 )
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