Mie理论在静态光散射粒度测量的应用下限研究
汲云涛1
任中京2
1.中国地震局,地质研究所,北京,1000292.济南大学,颗粒测试研究所,山东,济南,250022
摘要：测量下限是光散射颗粒测试技术的关键问题.本文通过理论分析、比较归一化散射光强的分布图和构造方差函数F(d)对颗粒散射光的光强分布进行了定性和定量的讨论,对Mie散射向Rayleigh 散射趋近的情况进行了分析,讨论了散射光光强大小的分布,分析了测量不同粒径的颗粒的可行性,最终得到在入射光源是波长为0.6328μm的He-Ne激光器的情况下,当粒径d取200nm以上时,不同粒径颗粒的Mie散射光强分布有较大差别,适合用静态光散射的方法来判断颗粒粒径.
关键词：颗粒粒度光散射Mie理论
分类号：O436.2(光学)
论文发表日期：2005-01-01
在线出版日期：2026-05-22（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 14-16 )
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