滴灌频率对温室小西瓜生长势、产量及品质的影响
张保东1
刘国栋2
代艳侠1
周婕1
李永春1
陈宗光1
冯文清1
王旭1
1.北京市大兴区农业科学研究所,北京,1026002.北京市大兴区种植业服务中心,102600
摘要：在日光温室栽培条件下研究不同滴灌频率对西瓜长势、产量及品质的影响,以确定温室西瓜种植最佳的滴灌频率和灌溉量.结果表明:不同灌溉频率对西瓜生长过程中叶面积和长势的影响较小.其中在整个果实发育期以每7 d灌水1次,共浇灌3次,总灌溉量为65m3的处理效果最佳,667m2西瓜产量3 564.6 kg,中心可溶性同形物13.62%,是本试验条件下温室栽培小西瓜最优的灌溉频率和灌溉量,不仅小西瓜高产优质,同时又省工省时节水.
关键词：灌溉频率西瓜生长品质产量
论文发表日期：2009-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 7-9 )
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