外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响
刘思宇
黑龙江省农业科学院园艺分院 哈尔滨150069
摘要：为研究外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响,以‘绿剑’旱黄瓜为试验材料,在冬季对模拟温室墙下的植株分别进行补光,并以未补光植株作为对照,分别测定了在不同光照条件下,植株生长过程中的营养生长情况、相关生理生化指标以及光合作用中相关生化指标的变化情况.结果表明:处理W1较WCK的产量提高了146.96％,处理E1较ECK的产量提高了245.15％,说明通过一定的外源补光,能够有效地提高受到遮挡植株的各方面生理指标,最终达到提高产量的目的.
关键词：黄瓜温室遮挡部位生长外源补光
资助基金：俄罗斯等国农业资源创新和成果推广服务平台建设(2014QE6AE002)
论文发表日期：2016-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 11-13 )
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