热丝化学气相沉积(HFCVD)制备纳米晶态SiC紫外发光特性研究
王辉1
武超2
汤正新1
尤景汉1
琚玮玮1
1.河南科技大学,理学院,河南,洛阳,4710032.中原工学院,郑州,450007
摘要：采用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术在Si(111)衬底上生长了SiC薄膜.通过电子能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)和时间分辨光谱等分析手段对样品结构、组分进行了分析.实验结果表明所制备的样品为纳米晶态SiC,并通过计算得到验证,对所制备样品进行光致发光特性测试,观察到其在室温下有较强的紫外发光.
关键词：碳化硅纳米晶态HFCVDPL紫外发光
分类号：TB34(工程材料学)
论文发表日期：2007-07-02
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 29-31,35 )
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