磁控溅射WO3薄膜特性研究
林伟
黄世震
陈伟
颜志波
耿涛
1.福州大学,气敏传感器研究所,福建,福州,3500022.福州大学,气敏传感器研究所,福建,福州,3500023.福州大学,气敏传感器研究所,福建,福州,3500024.福州大学,气敏传感器研究所,福建,福州,3500025.福州大学,气敏传感器研究所,福建,福州,350002
摘要：用磁控溅射法制成WO3薄膜,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3薄膜的性能.利用XRD分析了样品的粒径大小,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响.结果表明,薄膜中WO3晶粒的平均尺寸为17 nm,该传感器对NOx气体有非常好的灵敏度和选择性,对体积分数为1×10-5的NOx气体灵敏度高于50倍,而对其他干扰气体的灵敏度小于2倍.
关键词：磁控溅射氧化钨氧化氮薄膜
分类号：TP212(自动化技术及设备)TQ136.1+3(金属元素的无机化合物化学工业)
资助基金：福建省科技三项费资助项目(K2001015)
论文发表日期：2002-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 7-10 )
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