某装备光学镜筒局部着黑色工艺设计
李俊英
彭刚
1.中国电子科技集团公司 第二十七研究所,河南 郑州,4500472.中国电子科技集团公司 第二十七研究所,河南 郑州,450047
摘要：为解决某装备光学镜筒局部导电、局部硫酸阳极氧化着黑色的工艺技术难题，筛选出一套适合该装备光学镜筒局部表面处理的工艺方法，采用某涂覆液经3～5次涂覆成型，遮蔽层厚度为120μm，固化温度为93℃，固化时间为35 min．通过遮蔽层对导电表面与硫酸阳极氧化溶液的有效隔离，实现了对光学镜筒导电表面进行保护的目的，满足了该装备光学镜筒局部导电、局部硫酸阳极氧化着黑色的特殊使用要求．
关键词：光学镜筒着黑色遮蔽层
分类号：TQ153(电化学工业)
论文发表日期：2014-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 48-51 )
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