单能量成像联合O-MAR技术在优化金属植入物患者口咽CT图像质量中的价值
马文涛
张永县
郭森林
刘云福
康天良
首都医科大学附属北京同仁医院放射科,北京 100730
摘要：目的:探讨联合使用不同keV虚拟单能量成像(VMI)和金属伪影抑制(O-MAR)技术在优化口腔金属植入物患者口咽部CT图像质量中的应用价值.方法:模体研究:以Philips IQon Spectral CT临床口咽部扫描方案为基准,对Catphan600模体CTP528模块进行扫描,分别开启和不开启O-MAR重建 66 keV、80～160 keV(间隔 20keV)单能量图像并测算调制传递函数(MTF).临床研究:回顾性分析口咽部CT检查 55例,其中含高密度伪影 25例,低密度伪影 30例,分别开启和不开启O-MAR重建常规影像(CI)、66 keV、80～160 keV的单能量图像.选择伪影最严重的层面为伪影层面,相邻不受伪影干扰的层面为参考层面,测算伪影层面兴趣区的伪影系数(AI),伪影层面与参考层面兴趣区的CT值偏差∆Av,参考层面兴趣区的绝对对比度(AC)和对比噪声比(CNR).采用Likert三分量表对图像进行伪影抑制能力、新生伪影情况及伪影抑制区组织可信度等 3个维度进行主观评价.结果:模体研究:启用O-MAR对MTF值无影响,使用VMI较CI图像的MTF值有约3%小幅降低;O-MAR联合VMI(VMIMAR)使用时,高/低密度伪影的伪影系数和高密度伪影的CT值偏差随能量水平的升高而降低,平均值由CI图像的 125.89/192.47和 166.04 HU降低到 160 keV时的 27.61/18.30和10.36 HU.低密度伪影的CT值偏差在 100keV时最小为平均-4.35 HU.单独使用VMI时,高/低密度伪影的伪影系数平均数分别在120/160 keV时最低为65.16/125.31,CT值偏差平均值在160 keV时最小为12.87/-46.11 HU.图像的AC/CNR均随能量等级的升高而降低.O-MAR联合VMI使用时,当能量水平达到 120 keV后主观评分在 3个维度上均达到 3分;单独使用VMI时主观评分最高为 2分.结论:使用VMI联合O-MAR技术可有效降低口腔金属植入物伪影对周围组织观察的影响,选择 120 keV左右的VMIMAR图像可兼顾伪影抑制效果和图像对比度.
关键词：光谱CT金属伪影抑制虚拟单能图
分类号：TP391.4(计算技术、计算机技术)R814(放射医学)
论文发表日期：2026-03-31
在线出版日期：2026-04-02（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：10( 265-274 )
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