活性艳红水溶液的光助还原脱色反应机理研究
丁艳华
李海燕
杨俊
曾庆福
1.武汉科技学院纺织印染清洁生产教育部工程研究中心,湖北,武汉,4300732.武汉科技学院纺织印染清洁生产教育部工程研究中心,湖北,武汉,4300733.武汉科技学院纺织印染清洁生产教育部工程研究中心,湖北,武汉,4300734.武汉科技学院纺织印染清洁生产教育部工程研究中心,湖北,武汉,430073
摘要：基于紫外辐照硼氢化钾,亚硫酸氰钠(UV/KBH_4/NaHSO_3)体系下对活性艳红X-3B进行还原脱色反应,重点探讨了该体系下还原降解活性艳红X-3B的反应机理,考察了硼氢化钾和亚硫酸氢钠的摩尔比(B/S)、辐射光强对其反应机理的影响.结果发现.UV/KBH/NaHSO_3处理染液具有明显协同作用,初步推测光助硼氢化钾和哑硫酸氢钠还原活性艳红X-3B的脱色反应是SO_3与的自由基反应;脱色反应的B/S最佳摩尔比为1:30;增加辐射光的强度对染液的还原脱色反应过程具有明显的促进作用.
关键词：还原紫外辐照脱色机理活性艳红X-3B
分类号：X131.2(环境化学)
资助基金：国家"十一五"科技支撑计划项目(2006BAC02A00)湖北省自然科学基金项目资助(2007ABA129)
论文发表日期：2009-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 31-34 )
英文信息