Ar+能量及低能轰击对离子溅射铜钨薄膜结构的影响
艾永平1
周灵平1
陈兴科2
刘俊伟1
李绍禄1
1.湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,4100822.中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410008
摘要：研究了双离子束溅射制备铜钨薄膜时Ar+能量及低能辅助轰击对膜结构的影响.实验结果表明,以铜为衬底,铜靶Ar+能量在1～2keV、钨靶Ar+能量在3keV左右时,离子溅射铜钨薄膜是以钨的非晶态为骨架机械夹杂着铜晶粒的方式存在.铜晶粒度随铜靶Ar+能量增加略有增大.当Ar+能量高到临界值(约为1.5keV)时,少量铜转变成单晶态和熔进钨形成固溶体.受晶体缺陷及晶格畸变影响,铜衍射峰会发生微小偏移.
关键词：铜钨合金薄膜离子束溅射非晶态
分类号：TB331(工程材料学)
资助基金：国防科研项目(MKPT-03-146)
论文发表日期：2005-05-02
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：3( 1-3 )
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