溅射用难熔金属靶材的制备及再制造工艺研究进展
潘亚飞1
黄蕾2
张久兴3
1.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽 合肥 230009;中南大学 粉末冶金国家重点实验室,湖南 长沙 4100832.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽 合肥 2300093.合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽 合肥 230009;合肥工业大学高性能铜合金材料及成形加工教育部工程研究中心,安徽 合肥 230009
摘要：[目的]为了探讨难熔金属靶材在半导体行业的应用现状,分析其制备工艺,并预测未来的发展趋势.[研究现状]梳理在靶材制备过程中,致密度、纯度、晶粒尺寸和结晶取向等关键因素对靶材性能的影响;总结粉末冶金技术(热压、热等静压、冷等静压、放电等离子烧结等)和熔炼技术(电子束熔炼、电弧熔炼等)在难熔金属靶材制备中的应用;阐述靶材回收技术和原位修复技术的研究进展和应用前景.[结论与展望]难熔金属靶材的未来发展正朝着以下几个关键方向迈进:追求更高的纯度和均匀性,实现更大的尺寸和更高的平整度,开发新型制备技术,以及优化回收与再利用流程,这些进步将为半导体行业带来更高的效率,提供可持续的发展路径.
关键词：溅射靶材难熔金属制备技术回收及再制造
分类号：TB34(工程材料学)
资助基金：国家重点研发计划(2018YFC1901703)中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(JZ2023HGQB0163、PA2022GDGP0029、PA2023GDGP0042)中南大学粉末冶金国家重点实验室资助项目(Sklpm-KF-005)
论文发表日期：2025-09-01
在线出版日期：2026-05-22（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：14( 39-52 )
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