硅对人恒前磨牙早期釉质龋再矿化影响的扫描电镜观察
刘振华1
王铎2
贺长历3
1.北京市中关村医院口腔科,北京,1000912.山东大学口腔医学院,山东,2500123.山东省千佛山医院口腔科,山东,250010
摘要:目的:借助扫描电镜观察硅对脱矿釉质再矿化的影响.方法:用基础再矿化液和加硅的再矿化液对脱矿后的离体恒前磨牙牙釉质标本进行再矿化处理,用扫描电镜观察其表面形态及组织学变化.结果:对照组蜂巢状结构清晰,凹陷底部见球状沉积物,已变浅.实验组蜂巢状结构不清晰,大量微球状和球状颗粒沉积,凹陷变浅,有的地方已经填平,呈光滑形态.结论:1ppm Si的再矿化溶液能够明显促进脱矿牙釉质的再矿化.
关键词:再矿化龋病扫描电镜
分类号:R781.1(口腔内科学)
论文发表日期:2011-01-01
在线出版日期:2025-08-15(本平台首次上网日期,不代表文献的发表时间)
页数:3( 74-76 )
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中华口腔全科医学杂志

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ISSN:1672-2973
年,卷(期):2011,9(2)
所属栏目:基础研究