4种粘接剂对牙本质粘接界面的纳米渗漏研究
高晓利
马淑媛
黄怡
赖仁发
1.暨南大学附属第一医院,暨南大学口腔医学院 广东,5106302.暨南大学附属第一医院,暨南大学口腔医学院 广东,5106303.暨南大学附属第一医院,暨南大学口腔医学院 广东,5106304.暨南大学附属第一医院,暨南大学口腔医学院 广东,510630
摘要：目的:通过纳米渗漏检测技术,观察4种粘接剂对牙本质粘接界面的微观形态及纳米渗漏情况,为临床上纳米渗漏的预防和牙本质粘接剂的选择提供参考.方法:选取48颗正常第三磨牙,随机分为4组,分别用A(Single bond 2)、B(Clearfil SE Bond)、C(XenoⅢ)、D(Easy one)4种粘接剂制备试件,50％硝酸氨银溶液渗染,扫描电镜下观察比较粘接界面的纳米渗漏程度.结果:4种粘接剂均有纳米渗漏发生.A组的纳米渗漏位于混合层底部,B、C和D组全层均可见.其中,A和C组的纳米渗漏无显著性差异(P＞0.05),两者均多于B组,少于D组.结论:所有粘接剂均有纳米渗漏发生.全酸蚀粘接剂发生在混合层底部,自酸蚀粘接剂全层均可见.Clearfil SE Bond的纳米渗漏较Single bond 2和XenoⅢ少,Easy one的纳米渗漏最明显.
关键词：粘接剂牙本质扫描电镜纳米渗漏边缘密合性
分类号：R783(口腔矫形学、牙科美学)
资助基金：天河区科信局课题项目(201504KW020)国家自然科学基金(81603668)
论文发表日期：2018-01-01
在线出版日期：2025-08-15（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：4( 161-164 )
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