晶圆边缘曝光用汞氙灯光源系统的散热优化
张绍春
马玉军
田宇
张学士
杨杰
韩秋漪
张善端
复旦大学电光源研究所,上海 200438
摘要：晶圆边缘曝光是光刻工艺中处理晶圆边缘光刻胶残留的关键技术,对提升半导体器件制造精度和生产效率至关重要.作为边缘曝光单元核心部件的汞氙灯光源系统工作时管壁温度过高,使得反光碗表面温度分布不均匀,导致紫外辐照度不稳定.本文基于环形管道流量分配模型设计单向和双向环形风管,解决反光碗表面温度不均匀的问题.通过分析风管开口角度、数量、孔径、环直径和管道内径等参数,确定优化方案为开口角度90°、开口数量6个、开口孔径7 mm、环直径95 mm、管道内径15 mm.仿真与实验结果表明,该优化结构使反光碗表面温度均匀度提升至98.2％,紫外辐照度不稳定度降至1.1％,为高稳定性边缘曝光光源系统的国产化设计提供了重要参考.
关键词：汞氙灯边缘曝光散热结构设计紫外辐射特性
分类号：TM923(电气化、电能应用)
论文发表日期：2025-12-31
在线出版日期：2026-01-08（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：11( 90-100 )
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